电解水处理器厂家助力企业零排放

电解除垢系统(HGEST)详见 http://www.hzvalve.net/product/list/20170106090733.html 

新千年的革命性发展，HGEST代表了在线除垢技术的新水平。HGEST通过电解原理来实现设备保护和除垢目的，主要用于宾馆饭店、医院、学校、大型公共场所的冷热水

系统、工业冷却循环水、中央空调系统冷却循环水、饮用水等领域。

水在反应室内进行处理，经历了电解的过程。在电解过程中，阴极发生化学反应产生OH-离子，增加反应室内壁附近的pH值，加强反应室壁附近的碱性环境。

邻近反应室壁的扩散层，扰乱了水垢的化学平衡，形成碳酸钙从水中析出，附着在内壁上。

同时阴极的电流导致溶解的重金属元素的离子形成沉淀，沉到反应室底部。应该提请注意的是HGEST不是电解软水器。HGEST系统沉淀出来的碳酸钙是那些在冷却水管路

中易于沉积下来的部分。这些有害的沉积，会堵塞管道，产生水垢和增加腐蚀，降低热交换效率，阻碍生产。EST系统能够把进入反应室水中的钙永久的沉淀去除30%以

上。这个百分比也会随着水中的组成而变化。

在反应室内壁附近发生的主要化学反应有：

2H2O (l) + 2e- → H2 (气) + 2OH- (aq)

碱性溶液中发生的反应（阴极附近）

CO2(aq)+ OH-(aq) → HCO3- (aq)

HCO3- (aq) + OH- (aq) → CO32-(aq) + H20(液)

Ca2+(aq) 钙离子可能形成

氢氧化钙: Ca(OH)2(垢)

碳酸钙: CaCO3(垢) 

电解水处理器厂家助力企业零排放

阳极附

电解除垢系统(EST)

新千年的革命性发展，HGEST代表了在线除垢技术的最新水平。EST通过电解原理来实现设备保护和除垢目的，主要用于宾馆饭店、医院、学校、大型公共场所的冷热水

系统、工业冷却循环水、中央空调系统冷却循环水、饮用水等领域。

水在反应室内进行处理，经历了电解的过程。在电解过程中，阴极发生化学反应产生OH-离子，增加反应室内壁附近的pH值，加强反应室壁附近的碱性环境。

邻近反应室壁的扩散层，扰乱了水垢的化学平衡，形成碳酸钙从水中析出，附着在内壁上。

同时阴极的电流导致溶解的重金属元素的离子形成沉淀，沉到反应室底部。应该提请注意的是HGEST不是电解软水器。HGEST系统沉淀出来的碳酸钙是那些在冷却水管路

中易于沉积下来的部分。这些有害的沉积，会堵塞管道，产生水垢和增加腐蚀，降低热交换效率，阻碍生产。EST系统能够把进入反应室水中的钙永久的沉淀去除30%以

上。这个百分比也会随着水中的组成而变化。

在反应室内壁附近发生的主要化学反应有：  详见 http://www.hzvalve.net/product/list/20170106090733.html 

2H2O (l) + 2e- → H2 (气) + 2OH- (aq)

碱性溶液中发生的反应（阴极附近）

CO2(aq)+ OH-(aq) → HCO3- (aq)

HCO3- (aq) + OH- (aq) → CO32-(aq) + H20(液)

Ca2+(aq) 钙离子可能形成

氢氧化钙: Ca(OH)2(垢)

碳酸钙: CaCO3(垢) 

阳极附近发生的化学反应有：

生成氧气

4HO- → O2(g) + 2H20 + 4e-

游离氯

Cl- – e- → Cl0

氯气

2Cl-(aq) → Cl2(g) + 2e-

臭氧

O2 + 2HO- – 2e- → O3(g) + H2O

自由基

OH- – e- → OH0

过氧化氢

2H2O – 2 e- → H2O2 + 2H+

氧自由基

2H2O – 2e- → O0 + 2 H+

反应室

电解水处理器厂家助力企业零排放

特殊长寿命钛基电极，专门为大电流而设计，表面涂覆氧化镍涂层（TiNiO），该电极是杭州桂冠环保科技有限公司专门为HGEST系统设计的。

微电脑控制的全自动活塞，用于自动清理反应室中形成的水垢。

①      反应室（阴极）②      阳极③      马达④      进水口⑤      排污口⑥      刮刀⑦      出水口⑧      供电和控制单元

⑨      刮刀导杆供电和控制单元包括

一个用于停止系统动作的重置按钮。电导率测试电路，用于根据所处理的水的电导率来调整工作电流。

根据不同的处理程序提供相应的可选择功能。

监测EST系统的工作状态，配电柜面板上有四个数据显示，电导率，电解电流pH

除垢和自清洗过程必要的时候，微电脑给出命令，驱动马达，这个刮刀与反应室的内部尺寸正好吻合。进水阀门自动关闭，马达缓慢旋转，将反应室内壁上的软性的水

垢清扫和刮洗到反应室的底部，接着出水阀门自动打开，通过一台大功率的泵将积累起来的水垢抽出反应室。最后进水阀门打开，新鲜的水进入反应室。这个过程周期

性进行，由EST微电脑控制。

HGEST系统在冷却水系统的两个应用

HGEST系统和冷却塔的组合方式有两种：

在冷却塔中，HGEST系统能在两种情形中组合。

A 补给水处理；

B 冷却循环水旁流处理。

选择A 时，HGEST系统安装在补给水管路上，只处理补给水。HGEST系统的大小由此流量确定。

选择B 时，所有的冷却水都被处理。在冷却水循环系统和EST系统之间须要安装一台循环泵，所有的冷却水都被处理，包括补充水。这是根据客户需要的解决方案，因

为随着浓缩倍率的增加，水的硬度也会增加。在这种情况下，EST系统需要适当调整大小。

注意：泵是可选项。

标准设计有下面五种流量，大流量设计请洽代理商。详见 http://www.hzvalve.net/product/list/20170106090733.html 

HGEST 5，流量5 m3/hr；HGEST 5表示5m3/h；

HGEST 10，流量10 m3/hr；

HGEST 15，流量15 m3/hr；

HGEST 25，流量25 m3/hr。

工作压力为6bar。

最大工作温度50℃。正常使用情况下，EST系统保质期12月。

根据多年的经验和研究，在EST预结垢系统中，既能沉淀那些倾向沉淀的垢，但也能导致硅石沉淀。硅石沉积是因为在水中与其他矿物质的聚合和沉淀，沉淀其他多价

离子与其发生反应。

硅石的溶解性取决于很多因素，例如：pH 值，温度，水中微粒的大小，微粒的水合作用以及其它存在的离子。坚硬硅石垢是在碳酸钙或者其它矿物质的沉积诱导硅石

的晶格形成。只有通过绝对控制腐蚀和微生物才可能预防硅石沉淀。

杭州桂冠环保科技有限公司已经研发了电解系统用来防止垢结晶以及硅石的沉淀。电解系统与EST系统串联起来使用，辅助EST、更好的推动以及更有效的在水系统中对

硅石沉淀和防止硅石结晶。+电解系统由不同材料通过不同部件以及健康部门允许的标准组成的阳极所构成，用来阻止硅石垢结晶。

累计水垢被泵送通过高功率泵离开反应室。 。最后，入口阀打开，淡水进入反应室。该过程周期性地执行并由HGEST微计算机控制。 HGEST系统在冷却水系统中的两种

应用 将HGEST系统和冷却塔结合使用有两种方法： 在冷却塔中，HGEST系统可以在两种情况下组合。 补水处理; B冷却循环水旁路处理。 选择A时，HGEST系统安装在

供应线上，仅供应补给水。 HGEST系统的大小由该流程确定。 选择B时，处理所有冷却水。冷却水循环系统和HGEST系统之间需要循环泵，所有冷却水都经过处理，包

括补给水。这是一种基于客户需求的解决方案，因为随着浓度比的增加，水的硬度增加。在这种情况下，HGEST系统需要适当调整大小。 注意：泵是可选的。 标准设

计有以下五种流程，请联系代理商进行大流量设计。 HGEST 5，流速5 m3/hr; HGEST 5表示5m3/h; HGEST 10，流量10 m3/hr; HGEST 15，流量15 m3/hr; HGEST 25，

流量25 m3/hr。 工作压力为6巴。 最高工作温度为50°C。在正常使用情况下，HGEST系统的保质期为12个月。 根据多年的经验和研究，在HGEST预定标系统中，可以

沉淀那些倾向于沉淀的水垢，但也会导致二氧化硅沉淀。二氧化硅沉积物是由于水中其他矿物质的聚合和沉淀，并且其他多价离子的沉淀与它们反应。二氧化硅的溶解

度取决于许多因素，例如pH，温度，水中的粒度，颗粒的水合作用和存在的其他离子。硬质二氧化硅垢是由碳酸钙或其他矿物质的沉积诱导的二氧化硅的晶格形成。只

能通过绝对控制腐蚀和微生物来防止二氧化硅沉淀。 杭州桂冠环保科技有限公司开发了一种电解系统，可防止结垢和二氧化硅沉淀。电解系统与HGEST系统串联使用，

以帮助HGEST，更好地推进和更有效地在水系统中沉淀二氧化硅并防止二氧化硅结晶。电解系统由不同材料的阳极通过卫生部门批准的不同组分和标准组成，以防止二

氧化硅结垢。近发生的化学反应有：

生成氧气

4HO- → O2(g) + 2H20 + 4e-

游离氯

Cl- – e- → Cl0

氯气

2Cl-(aq) → Cl2(g) + 2e-

臭氧

O2 + 2HO- – 2e- → O3(g) + H2O

自由基

OH- – e- → OH0

过氧化氢

2H2O – 2 e- → H2O2 + 2H+

氧自由基

2H2O – 2e- → O0 + 2 H+

反应室

电解水处理器厂家助力企业零排放

特殊长寿命钛基电极，专门为大电流而设计，表面涂覆氧化镍涂层（TiNiO），该电极是杭州桂冠环保科技有限公司专门为EST系统设计的。

微电脑控制的全自动活塞，用于自动清理反应室中形成的水垢。

①      反应室（阴极）②      阳极③      汽缸④      进水口⑤      排污口⑥      刮刀⑦      出水口⑧      供电和控制单元

⑨      刮刀导杆供电和控制单元包括

一个用于停止系统动作的重置按钮。电导率测试电路，用于根据所处理的水的电导率来调整工作电流。

根据不同的处理程序提供相应的可选择功能。

监测EST系统的工作状态，配电柜面板上有四个数据显示，电导率，电解电流pH

除垢和自清洗过程必要的时候，微电脑给出命令，驱动马达，这个刮刀与反应室的内部尺寸正好吻合。进水阀门自动关闭，马达缓慢旋转，将反应室内壁上的软性的水

垢清扫和刮洗到反应室的底部，接着出水阀门自动打开，通过一台大功率的泵将积累起来的水垢抽出反应室。最后进水阀门打开，新鲜的水进入反应室。这个过程周期

性进行，由EST微电脑控制。

HGEST系统在冷却水系统的两个应用

HGEST系统和冷却塔的组合方式有两种：

在冷却塔中，EST系统能在两种情形中组合。

A 补给水处理；

B 冷却循环水旁流处理。

选择A 时，HGEST系统安装在补给水管路上，只处理补给水。HGEST系统的大小由此流量确定。

选择B 时，所有的冷却水都被处理。在冷却水循环系统和EST系统之间须要安装一台循环泵，所有的冷却水都被处理，包括补充水。这是根据客户需要的解决方案，因

为随着浓缩倍率的增加，水的硬度也会增加。在这种情况下，EST系统需要适当调整大小。

注意：泵是可选项。

标准设计有下面五种流量，大流量设计请洽代理商。详见 http://www.hzvalve.net/product/list/20170106090733.html 

EST 5，流量5 m3/hr；EST 5表示5m3/h；

EST 10，流量10 m3/hr；

EST 15，流量15 m3/hr；

EST 25，流量25 m3/hr。

工作压力为6bar。

最大工作温度50℃。正常使用情况下，HGEST系统保质期12月。电解水处理器厂家助力企业零排放

根据多年的经验和研究，在EST预结垢系统中，既能沉淀那些倾向沉淀的垢，但也能导致硅石沉淀。硅石沉积是因为在水中与其他矿物质的聚合和沉淀，沉淀其他多价

离子与其发生反应。

硅石的溶解性取决于很多因素，例如：pH 值，温度，水中微粒的大小，微粒的水合作用以及其它存在的离子。坚硬硅石垢是在碳酸钙或者其它矿物质的沉积诱导硅石

的晶格形成。只有通过绝对控制腐蚀和微生物才可能预防硅石沉淀。

杭州桂冠环保科技有限公司已经研发了电解系统用来防止垢结晶以及硅石的沉淀。电解系统与HGEST系统串联起来使用，辅助EST、更好的推动以及更有效的在水系统中

对硅石沉淀和防止硅石结晶。+电解系统由不同材料通过不同部件以及健康部门允许的标准组成的阳极所构成，用来阻止硅石垢结晶。

累计水垢被泵送通过高功率泵离开反应室。 。最后，入口阀打开，淡水进入反应室。该过程周期性地执行并由HGEST微计算机控制。 HGEST系统在冷却水系统中的两种

应用 将HGEST系统和冷却塔结合使用有两种方法： 在冷却塔中，HGEST系统可以在两种情况下组合。 补水处理; B冷却循环水旁路处理。 选择A时，HGEST系统安装在

供应线上，仅供应补给水。 HGEST系统的大小由该流程确定。 选择B时，处理所有冷却水。冷却水循环系统和HGEST系统之间需要循环泵，所有冷却水都经过处理，包

括补给水。这是一种基于客户需求的解决方案，因为随着浓度比的增加，水的硬度增加。在这种情况下，HGEST系统需要适当调整大小。 注意：泵是可选的。 标准设

计有以下五种流程，请联系代理商进行大流量设计。 HGEST 5，流速5 m3/hr; HGEST 5表示5m3/h; HGEST 10，流量10 m3/hr; HGEST 15，流量15 m3/hr; HGEST 25，

流量25 m3/hr。 工作压力为6巴。 最高工作温度为50°C。在正常使用情况下，HGEST系统的保质期为12个月。 根据多年的经验和研究，在HGEST预定标系统中，可以

沉淀那些倾向于沉淀的水垢，但也会导致二氧化硅沉淀。二氧化硅沉积物是由于水中其他矿物质的聚合和沉淀，并且其他多价离子的沉淀与它们反应。二氧化硅的溶解

度取决于许多因素，例如pH，温度，水中的粒度，颗粒的水合作用和存在的其他离子。硬质二氧化硅垢是由碳酸钙或其他矿物质的沉积诱导的二氧化硅的晶格形成。只

能通过绝对控制腐蚀和微生物来防止二氧化硅沉淀。 杭州桂冠环保科技有限公司开发了一种电解系统，可防止结垢和二氧化硅沉淀。电解系统与HGEST系统串联使用，

以帮助HGEST，更好地推进和更有效地在水系统中沉淀二氧化硅并防止二氧化硅结晶。电解系统由不同材料的阳极通过卫生部门批准的不同组分和标准组成，以防止二

氧化硅结垢。 详见 http://www.hzvalve.net/product/list/20170106090733.html HG